» załóż konto» przypomnij hasło

Proces technologiczny 22 nm

Autor: Szymon Grzegorczyk | Źródło: Inf. pras. | Data: 2009-09-22 20:34:15

A A A | Wejść na stronę 4195 | Komentarzy 0

Proces technologiczny 22 nmW dniach 22–24 września odbywa się konferencja Intel Developer Forum w San Francisco. Paul Otellini, prezes i dyrektor generalny firmy Intel, zaprezentował dziś pierwsze na świecie działające chipy wykonane w technologii 22-nanometrowej. Intel nieustannie korzysta z prawa Moore’a i oferuje użytkownikom wynikające z niego korzyści. Nowe układy zapoczątkowują trzecią generację technologii tranzystorowej z metalową bramką oraz izolatorem o wysokiej stałej dielektrycznej (high-k) i zostały pokazane w dwa lata po tym, jak Intel zademonstrował działające obwody testowe poprzedniej generacji 32 nm. Potwierdza to, że prawo Moore’a nadal obowiązuje, choć zdaniem wielu ekspertów branża już dawno temu miała osiągnąć granice miniaturyzacji.

• Pamięci SRAM używa się jako obwodów testowych, aby zademonstrować działanie technologii, wydajność procesu oraz niezawodność chipów przed przystąpieniem do projektowania procesorów i innych układów logicznych, które będą wykorzystywały dany proces produkcyjny.
• Intel obecnie prowadzi intensywne prace nad technologią 22 nm i wszystko wskazuje na to, że model „tik-tak” będzie obowiązywać również w następnej generacji.
• 22-nanometrowe obwody testowe zawierają zarówno pamięć SRAM, jak i obwody logiczne, które będą używane w procesorach 22 nm.
• Komórki SRAM o powierzchni 0,108 i 0,092 mikrona kwadratowego tworzą macierz złożoną z 346 milionów bitów. Komórki o powierzchni 0,108 mikrona kwadratowego są zoptymalizowane pod kątem pracy niskonapięciowej. Komórki o powierzchni 0,092 mikrona kwadratowego są zoptymalizowane pod kątem wysokiej gęstości. Są to najmniejsze dotychczas zgłoszone komórki SRAM w działających obwodach. Układ testowy zawiera 2,9 miliarda tranzystorów o gęstości około dwukrotnie większej niż w poprzedniej generacji 32 nm na powierzchni rozmiaru paznokcia.
• Obwody 22 nm są kształtowane z wykorzystaniem narzędzia do kontroli ekspozycji za pomocą światła o długości fali 193 nm, co stanowi świadectwo pomysłowości intelowskich inżynierów litograficznych.
• Technologia 22 nm przedłuża ważność prawa Moore’a: mniejsze tranzystory, lepszy stosunek wydajność/wat i niższy koszt jednego tranzystora.

Intel i logo Intel to znaki towarowe Intel Corporation w Stanach Zjednoczonych i innych krajach.
* Inne nazwy i marki mogą być własnością odpowiednich podmiotów.

Warto przeczytać: Do góry

Komentarze


Konkursy

  • Wszystkie konkursy zakończone. Zapraszamy wkrótce.

  • Konkurs świąteczny 2020

    Konkurs świąteczny 2020

    Po raz kolejny przygotowaliśmy dla Was Świąteczny Konkurs, w którym możecie wygrać bardzo atrakcyjne nagrody. Aby wziąć udział w...

  • 10 urodziny vortalu!

    10 urodziny vortalu!

      Tak, już dziesięć lat jesteśmy z Wami! Z okazji naszej rocznicy przygotowaliśmy razem z naszymi partnerami dla Was kolejny konkurs z...